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碳化硼喷嘴的制作及作用


碳化硼涂层的制备方法
碳化硼喷嘴涂层存在着晶体和非晶体两种结构,非晶体涂层的硬度低于晶体涂层硬度制备碳化硼涂层的方法很多,主要有CVD真空镀膜可调射频磁溅射LCVD微波法离子溅射等实际应用中应根据具体要求采用不同的方法制备碳化硼涂层,争取获得最大的效益
采用离子溅射制备B4C涂层时,影响涂层性能最重要的因素是溅射距离溅射距离对涂层的成分和微观结构影响很大,B2O3含量随着溅射距离的增大而增大,而涂层致密率随着溅射距离的增大而降低,弹性模量下降溅射距离增加导致致密率下降有两个原因:一是当粒子处于熔融状态时,伴随B2O3形成的气体被围在基体中形成气孔.

碳化硼喷嘴与酸、碱溶液不起反应,具有高化学位、中子吸取、耐磨 及半导体导电性。是对酸最稳定的物质之一,在所有浓或稀的酸或 碱水溶液中都稳定。用硫酸、氢氟酸的混合酸处理后,在空气中800 ℃煅烧21h,可完全分解并形成三氧化碳和三氧化二硼。当有一些过渡金属及其碳化物共存时,有特殊的稳定性。但是,目前对碳化硼涂层的研究还不够深入与对其它涂层的研究相比,国外只有少量论文对B4C作为硬涂层进行了探讨,而国内相关的研究成果就更少本文在目前的研究基础上,综述了碳化硼涂层的有关研究成果,探讨了碳化硼涂层研究的进展和未来发展方向

 

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